文献
J-GLOBAL ID:200902134197382021
整理番号:93A0277461
様々な基板上の窒化アルミニウム薄膜の赤外反射率
Infrared reflectance of thin aluminum nitride films on various substrates.
著者 (3件):
MACMILLAN M F
(Univ. Pittsburgh, Pennsylvania)
,
DEVATY R P
(Univ. Pittsburgh, Pennsylvania)
,
CHOYKE W J
(Univ. Pittsburgh, Pennsylvania)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
62
号:
7
ページ:
750-752
発行年:
1993年02月15日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)