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文献
J-GLOBAL ID：200902134651940646
整理番号：00A0826899
Specular Spectroscopic Profilometry for the Sub-0.18μm PolySi-Gate Processes.
NIU X
(Timbre Technol., Inc., CA)
,
JAKATDAR N
(Timbre Technol., Inc., CA)
,
YEDUR S
(Advanced Micro Devices, CA)
,
SINGH B
(Advanced Micro Devices, CA)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 3998 ページ： 846-855 発行年： 2000年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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