文献
J-GLOBAL ID:200902135100681336
整理番号:93A0660337
Molecular-beam epitaxial growth of boron-doped GaAs films.
著者 (4件):
HOKE W E
(Raytheon Research Division, Massachusetts)
,
LEMONIAS P J
(Raytheon Research Division, Massachusetts)
,
WEIR D G
(Raytheon Research Division, Massachusetts)
,
HENDRIKS H T
(Raytheon Research Division, Massachusetts)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
11
号:
3
ページ:
902-904
発行年:
1993年05月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)