文献
J-GLOBAL ID:200902135132241249
整理番号:94A0139447
Marks for alignment and registration in projection electron lithography.
著者 (9件):
FARROW R C
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
LIDDLE J A
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
BERGER S D
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
HUGGINS H A
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
KRAUS J S
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
CAMARDA R M
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
JURGENSEN C W
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
KOLA R R
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
FETTER L
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
11
号:
6
ページ:
2175-2178
発行年:
1993年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)