文献
J-GLOBAL ID:200902135338346705
整理番号:01A0238091
酸化物エッチプラズマプロセシング放電中の真空紫外スペクトルの絶対強度
Absolute intensities of the vacuum ultraviolet spectra in oxide etch plasma processing discharges.
著者 (5件):
WOODWORTH J R
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
RILEY M E
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
AMATUCCI V A
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
HAMILTON T W
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
ARAGON B P
(Sandia National Lab., New Mexico)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
19
号:
1
ページ:
45-55
発行年:
2001年01月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)