文献
J-GLOBAL ID:200902135442815482
整理番号:93A0597472
Si上にマグネトロンスパッタ蒸着したTi膜の残留応力と亀裂特性
Residual stresses and fracture properties of magnetron sputtered Ti films on Si microelements.
著者 (7件):
LJUNGCRANTZ H
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
,
HULTMAN L
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
,
SUNDGREN J-E
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
,
JOHANSSON S
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
,
KRISTENSEN N
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
,
SCHWEITZ J-A
(Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
,
SHUTE C J
(Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
11
号:
3
ページ:
543-553
発行年:
1993年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)