文献
J-GLOBAL ID:200902135513963828
整理番号:02A0843052
真空アークプラズマ蒸発による透明導電性酸化物薄膜の高速蒸着
High rate deposition of transparent conducting oxide thin films by vacuum arc plasma evaporation.
著者 (3件):
MINAMI T
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
IDA S
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
MIYATA T
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
416
号:
1/2
ページ:
92-96
発行年:
2002年09月02日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)