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文献
J-GLOBAL ID：200902135597205303
整理番号：96A0998535
Cl2/Ar,CH4/H2/Ar,ICl/Ar及びIBr/Ar中のIII~V族窒化物の選択的ドライエッチング
Selective Dry Etching of III-V Nitrides in Cl2/Ar, CH4/H2/Ar, ICl/Ar, and IBr/Ar.
VARTULI C B
(Univ. Florida, Florida, USA)
,
PEARTON S J
(Univ. Florida, Florida, USA)
,
MACKENZIE J D
(Univ. Florida, Florida, USA)
,
ABERNATHY C R
(Univ. Florida, Florida, USA)
,
SHUL R J
(Sandia National Lab., New Mexico, USA)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 143 号： 10 ページ： L246-L248 発行年： 1996年10月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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