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文献
J-GLOBAL ID：200902135679555639
整理番号：98A0652831
ガラス基板上のa-Si:H膜の初期プラズマCVD過程に対するab initio分子軌道解析
An ab-initio molecular-orbital analysis on the initial plasma CVD process of a-Si:H film on glass substrate.
MIYAZAKI K
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
NAKAJIMA K
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
SATO K
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
KOINUMA H
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 316 号： 1/2 ページ： 134-138 発行年： 1998年03月21日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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