文献
J-GLOBAL ID:200902135693311734
整理番号:93A0682953
垂直および水平磁場中における液体金属のCzochralski流中のドーパント濃度プロファイル
Dopant concentration profile in a Czochralski flow of liquid metal in a vertical or a horizontal magnetic field.
著者 (2件):
TOH K
(Kyushu Univ., Kasuga, JPN)
,
OZOE H
(Kyushu Univ., Kasuga, JPN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
130
号:
3/4
ページ:
645-656
発行年:
1993年06月
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)