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文献
J-GLOBAL ID：200902135891294330
整理番号：94A0598396
脂環式重合体系ArF単層レジストのリソグラフィー特性
Lithographic characteristics of alicyclic polymer based ArF single layer resists.
TAKAHASHI M
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
TAKECHI S
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
NOZAKI K
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
KAIMOTO Y
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
ABE N
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 7 号： 1 ページ： 31-39 発行年： 1994年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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