文献
J-GLOBAL ID:200902135942576352
整理番号:02A0661880
非晶質炭化けい素の構造緩和
Structural Relaxation of Amorphous Silicon Carbide.
著者 (5件):
ISHIMARU M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
BAE I-T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
HIROTSU Y
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MATSUMURA S
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
SICKAFUS K E
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
資料名:
Physical Review Letters
(Physical Review Letters)
巻:
89
号:
5
ページ:
055502.1-055502.4
発行年:
2002年07月29日
JST資料番号:
H0070A
ISSN:
0031-9007
CODEN:
PRLTAO
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)