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文献
J-GLOBAL ID：200902135964682377
整理番号：98A0789567
極端紫外リソグラフィ用高反射多層コーティングの膜応力の減少と補償の進歩
Advances in the reduction and compensation of film stress in high-reflectance multilayer coatings for extreme ultraviolet lithography.
MIRKARIMI P B
(Lawrence Livermore National Lab., CA, USA)
,
MONTCALM C
(Lawrence Livermore National Lab., CA, USA)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 3331 ページ： 133-148 発行年： 1998年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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