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文献
J-GLOBAL ID：200902136000885062
整理番号：01A0108885
HF/H2O2による多孔質シリコン形成における金属支援化学エッチング
Metal-assisted chemical etching in HF/H2O2 produces porous silicon.
LI X
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois)
,
BOHN P W
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, Illinois)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 77 号： 16 ページ： 2572-2574 発行年： 2000年10月16日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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