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文献
J-GLOBAL ID：200902136106395900
整理番号：95A0062364
二酸化けい素で囲まれたシリコン量子細線の作製とその輸送特性
Fabrication of a silicon quantum wire surrounded by silicon dioxide and its transport properties.
NAKAJIMA Y
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
TAKAHASHI Y
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
HORIGUCHI S
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
IWADATE K
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
NAMATSU H
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
KURIHARA K
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
TABE M
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 65 号： 22 ページ： 2833-2835 発行年： 1994年11月28日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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