文献
J-GLOBAL ID:200902136214571537
整理番号:98A0810879
クロム薄膜中の残留応力に及ぼすイオン照射の影響
Effects of ion irradiation on the residual stresses in Cr thin films.
著者 (5件):
MISRA A
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
FAYEULLE S
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
KUNG H
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
MITCHELL T E
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
NASTASI M
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
73
号:
7
ページ:
891-893
発行年:
1998年08月17日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)