文献
J-GLOBAL ID:200902136233984869
整理番号:93A0921604
高いホットキャリア信頼性をもつ新しいドレイン構造-SCC-LDD(表面対向ドープLDD)
A New Drain Engineering Structure-SCD-LDD (Surface Counter Doped LDD) for Improved Hot Carrier Reliability.
著者 (5件):
CHOU J W
(Electronics National Chiao-Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHANG C Y
(Electronics National Chiao-Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
HO L T
(Electronics National Chiao-Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
KO J
(United Microelectronics Corp., Hsinchu, TWN)
,
HSUE P
(United Microelectronics Corp., Hsinchu, TWN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
32
号:
9A
ページ:
L1203-L1205
発行年:
1993年09月01日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)