文献
J-GLOBAL ID:200902136502087445
整理番号:02A0809580
有機低k誘電材料のCH4/N2プラズマエッチング
CH4/N2 Plasma Etching for Organic Low-k Dielectric Material.
著者 (5件):
NAKAGAWA H
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
MORIKAWA Y
(ULVAC Japan Ltd., Shizuoka, JPN)
,
TAKANO M
(Matsushita Technoresearch, Inc., Osaka, JPN)
,
TAMAOKA E
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
HAYASHI T
(ULVAC Japan Ltd., Shizuoka, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
41
号:
9
ページ:
5775-5781
発行年:
2002年09月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)