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文献
J-GLOBAL ID：200902136521663511
整理番号：98A0739751
Siを導入したa-C:H膜の高温安定性の向上
Improved high-temperature stability of Si incorporated a-C:H films.
CAMARGO S S JR
(Univ. Federal do Rio de Janeiro, RJ, BRA)
,
NETO A L B
(Univ. Federal do Rio de Janeiro, RJ, BRA)
,
SANTOS R A
(Univ. Federal do Rio de Janeiro, RJ, BRA)
,
FREIRE F L JR
(Pontificia Univ. Catolica do Rio de Janeiro, R.J., BRA)
,
CARIUS R
(KFA-Juelich, Juelich, DEU)
,
FINGER F
(KFA-Juelich, Juelich, DEU)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 7 号： 8 ページ： 1155-1162 発行年： 1998年08月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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