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文献
J-GLOBAL ID：200902136556978752
整理番号：93A0844534
Photoresist Striation Study on the 8′′ Topography Wafer.
LEE D H-T
(Industrial Technology Research Inst. (ITRI), Shinchu, TWN)
,
LIN C-Y
(Industrial Technology Research Inst. (ITRI), Shinchu, TWN)
,
SHIAU G-Y
(Industrial Technology Research Inst. (ITRI), Shinchu, TWN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 1927 号： Pt 2 ページ： 772-783 発行年： 1993年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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