文献
J-GLOBAL ID:200902136611449489
整理番号:95A0886127
大径マルチスロット付きECRプラズマCVDによるa-Si:H薄膜の蒸着
Deposition of a-Si:H films by ECR plasma CVD using large diameter multi-slot antennae.
著者 (5件):
UEDA Y
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
TERANISHI H
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
TANAKA M
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
SHINOHARA S
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
KAWAI Y
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
74/75
号:
1/3 Pt 1
ページ:
503-507
発行年:
1995年09月
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)