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文献
J-GLOBAL ID：200902136768803839
整理番号：98A0247972
接触及び非接触マスクを用いたガラス材料の高速原子ビームエッチング
Fast Atom Beam Etching of Glass Materials with Contact and Non-Contact Masks.
TOMA Y
(Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
HATAKEYAMA M
(Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
ICHIKI K
(Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
HUANG H
(Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
YAMAUCHI K
(Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
WATANABE K
(Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
KATO T
(Ebara Res. Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36 号： 12B ページ： 7655-7659 発行年： 1997年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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