文献
J-GLOBAL ID:200902136796198592
整理番号:01A0108899
フォトニック結晶の製造過程における自己修復効果
Self-healing effects in the fabrication process of photonic crystals.
著者 (4件):
KAWASHIMA T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
MIURA K
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
SATO T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KAWAKAMI S
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
77
号:
16
ページ:
2613-2615
発行年:
2000年10月16日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)