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文献
J-GLOBAL ID：200902136830124072
整理番号：02A0616840
I線感応の光酸発生剤および光塩基発生剤ならびにポリ(ビニルフェノール)とジエポキシフルオレン誘導体をベースとする光橋かけ系への応用
I-Line Sensitive Photoacid and Photobase Generators and Their Use for Photocrosslinking System Based on Poly(vinylphenol) and Diepoxy Fluorene Derivatives.
OKAMURA H
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
WATANABE Y
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TSUNOOKA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
SHIRAI M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
FUJIKI T
(Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
KAWASAKI S
(Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
YAMADA M
(Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15 号： 1 ページ： 145-152 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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