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文献
J-GLOBAL ID：200902137076895870
整理番号：01A0052624
高密度フルオロカーボンプラズマ中でのキセロゲルのエッチング
Etching of xerogel in high-density fluorocarbon plasmas.
STANDAERT T E F M
(State Univ. New York at Albany, New York)
,
JOSEPH E A
(State Univ. New York at Albany, New York)
,
OEHRLEIN G S
(State Univ. New York at Albany, New York)
,
JAIN A
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
GILL W N
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
WAYNER P C JR
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
PLAWSKY J L
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 18 号： 6 ページ： 2742-2748 発行年： 2000年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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