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文献
J-GLOBAL ID：200902137086638298
整理番号：97A0823506
インジウム-すず酸化物のdc反応性マグネトロンスパッタリングにおけるプラズマパラメータと膜特性との関係
Relation between Plasma Parameters and Film Properties in DC Reactive Magnetron Sputtering of Indium-Tin-Oxide.
MATSUDA Y
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
,
YAMORI Y
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
,
MUTA M
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
,
OHGUSHI S
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
,
FUJIYAMA H
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36 号： 7B ページ： 4922-4927 発行年： 1997年07月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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