文献
J-GLOBAL ID:200902137403884208
整理番号:97A0207592
テトラキス(ジメチルアミド)チタン(IV)およびビス[N,N′-ビス(tert-ブチル)エチレンジアミド]チタン(IV)からのTiNxCy膜の蒸着に関するその場XPS研究
In Situ XPS Studies of the Deposition of TiNxCy Films from Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) and Bis[N,N′-bis(tert-butyl)ethylenediamido]titanium(IV).
著者 (5件):
RUHL G
(Technical Univ. Munich, Garching/Munich, DEU)
,
REHMET R
(Technical Univ. Munich, Garching/Munich, DEU)
,
KNIZOVA M
(Technical Univ. Munich, Garching/Munich, DEU)
,
MERICA R
(Technical Univ. Munich, Garching/Munich, DEU)
,
VEPREK S
(Technical Univ. Munich, Garching/Munich, DEU)
資料名:
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻:
8
号:
12
ページ:
2712-2720
発行年:
1996年12月
JST資料番号:
T0893A
ISSN:
0897-4756
CODEN:
CMATEX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)