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文献
J-GLOBAL ID：200902137729982986
整理番号：94A0800700
Transparent Photoacid Generator (ALS) for ArF Excimer Laser Lithography and Chemically Amplified Resist.
NAKANO K
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
MAEDA K
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
IWASA S
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
YANO J
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
OGURA Y
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
HASEGAWA E
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 2195 ページ： 194-204 発行年： 1994年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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