文献
J-GLOBAL ID:200902137889860577
整理番号:03A0086190
空気中での自然酸化中のシリコンの水素終端,酸化物被覆率,粗さ及び表面状態密度の分光研究
Spectroscopic investigations of hydrogen termination, oxide coverage, roughness, and surface state density of silicon during native oxidation in air.
著者 (4件):
HENRION W
(Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU)
,
REBIEN M
(Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU)
,
ANGERMANN H
(Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU)
,
ROESELER A
(Inst. Spektrochemie und angewandte Spektroskopie, Berlin, DEU)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
202
号:
3/4
ページ:
199-205
発行年:
2002年12月30日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)