文献
J-GLOBAL ID:200902138174864695
整理番号:93A0758892
Effects of electron energy in nanometer scale lithography.
著者 (4件):
STARK T J
(North Carolina State Univ., NC)
,
MAYER T M
(Sandia National Lab., NM)
,
GRIFFIS D P
(North Carolina State Univ., NC)
,
RUSSELL P E
(North Carolina State Univ., NC)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1924
ページ:
126-140
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)