文献
J-GLOBAL ID:200902138335095344
整理番号:93A0667618
定電圧でのSiのプラズマ陽極酸化の模型
A model for the plasma anodization of silicon at constant voltage.
著者 (2件):
LI L
(Univ. Leuven, Leuven, BEL)
,
PEETERS J
(Univ. Leuven, Leuven, BEL)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
74
号:
1
ページ:
639-644
発行年:
1993年07月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)