文献
J-GLOBAL ID:200902138636843621
整理番号:01A0248197
SF6プラズマ利用によるパイレックスガラスのディープRIE
Deep reactive ion etching of Pyrex glass using SF6 plasma.
著者 (3件):
LI X
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
ABE T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
ESASHI M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Sensors and Actuators. A. Physical
(Sensors and Actuators. A. Physical)
巻:
A87
号:
3
ページ:
139-145
発行年:
2001年01月05日
JST資料番号:
B0345C
ISSN:
0924-4247
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)