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文献
J-GLOBAL ID：200902138841487145
整理番号：96A1029259
レーザCVD蒸着した窒化チタン薄膜
Titanium nitride thin film deposition by laser CVD.
REISSE G
(Hochsch. Technik und Wirtschaft Mittweida, Mittweida, DEU)
,
EBERT R
(Hochsch. Technik und Wirtschaft Mittweida, Mittweida, DEU)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 106 ページ： 268-274 発行年： 1996年10月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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