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文献
J-GLOBAL ID：200902138852871168
整理番号：01A0733952
サブ0.25μm設計則に利用できるZrN/Zr二重層障壁薄膜を挿入した単一配向(111)Al被膜層を用いた接触系の作製
Preparation of a Contact System with a Single-Oriented (111)Al Overlayer by Interposing a Thin ZrN/Zr Bilayered Barrier Applicable to Sub-0.25-μm Design Rule.
MIYAKE H
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
YANAGISAWA H
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
SASAKI K
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
SHINKAI S
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
ABE Y
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 40 号： 6A ページ： 4193-4194 発行年： 2001年06月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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