文献
J-GLOBAL ID:200902139072748972
整理番号:01A0914445
SiCに関する局所エピタクシーおよび横エピタキシャル被覆成長
Local epitaxy and lateral epitaxial overgrowth of SiC.
著者 (4件):
KHLEBNIKOV Y
(Univ. South Carolina, SC, USA)
,
KHLEBNIKOV I
(Univ. South Carolina, SC, USA)
,
PARKER M
(Univ. South Carolina, SC, USA)
,
SUDARSHAN T S
(Univ. South Carolina, SC, USA)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
233
号:
1/2
ページ:
112-120
発行年:
2001年11月
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)