文献
J-GLOBAL ID:200902139229341367
整理番号:02A0862874
ポリシルセスキオキサンに基づいた新規タイプの低κ誘電膜
A New Type of LOW-κ Dielectric Films Based on Polysilsesquioxanes.
著者 (4件):
SU R Q
(Technische Univ. Muenchen, Garching, DEU)
,
MUELLER T E
(Technische Univ. Muenchen, Garching, DEU)
,
PROCHAZKA J
(Technische Univ. Muenchen, Garching, DEU)
,
LERCHER J A
(Technische Univ. Muenchen, Garching, DEU)
資料名:
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻:
14
号:
19
ページ:
1369-1373
発行年:
2002年10月02日
JST資料番号:
W0001A
ISSN:
0935-9648
CODEN:
ADVMEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)