文献
J-GLOBAL ID:200902139406898016
整理番号:99A0723840
エレクトロマイグレーションによるナノメータ間隔の金属電極の作製
Fabrication of metallic electrodes with nanometer separation by electromigration.
著者 (5件):
PARK H
(Univ. California, California)
,
LIM A K L
(Univ. California, California)
,
ALIVISATOS A P
(Univ. California, California)
,
PARK J
(Univ. California, California)
,
MCEUEN P L
(Univ. California, California)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
75
号:
2
ページ:
301-303
発行年:
1999年07月12日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)