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文献
J-GLOBAL ID：200902139478190107
整理番号：97A1003163
ワンステップリソグラフィー加工を用いたマイクロレリーフ表面の製造
Fabrication of Microrelief Surfaces using a One-Step Lithography Process.
REIMER K
(Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU)
,
HOFMANN U
(Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU)
,
JUERSS M
(Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU)
,
PILZ W
(Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU)
,
QUENZER H J
(Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU)
,
WAGNER B
(Fraunhofer Inst. Silicon Technol.(ISIT), Itzehoe, DEU)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 3226 ページ： 2-10 発行年： 1997年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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