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文献
J-GLOBAL ID：200902139495817997
整理番号：99A0936046
プロセシングプラズマで汚れた環境における電子密度測定のためのプラズマ吸収プローブ
Plasma Absorption Probe for Measuring Electron Density in an Environment Soiled with Processing Plasmas.
KOKURA H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
NAKAMURA K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
GHANASHEV I P
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SUGAI H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38 号： 9A ページ： 5262-5266 発行年： 1999年09月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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