文献
J-GLOBAL ID:200902139683021830
整理番号:99A0694439
デュアル陰極マグネトロンスパッタリングによる窒化ほう素炭素膜の堆積
Deposition of boron carbon nitride films by dual cathode magnetron sputtering.
著者 (3件):
KUSANO Y
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
,
EVETTS J E
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
,
HUTCHINGS I M
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
343/344
ページ:
250-253
発行年:
1999年04月
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)