文献
J-GLOBAL ID:200902139773145504
整理番号:98A0561604
低圧プラズマ洗浄 精密洗浄向けのプロセス
Low-pressure plasma cleaning: a process for precision cleaning applications.
著者 (5件):
PETASCH W
(Technics Plasma GmbH, Kirchheim, DEU)
,
KEGEL B
(Technics Plasma GmbH, Kirchheim, DEU)
,
SCHMID H
(Technics Plasma GmbH, Kirchheim, DEU)
,
LENDENMANN K
(SWISSAIR, Schweizerische Lufverkehr AG, Zuerich-Flughafen, CHE)
,
KELLER H U
(SWISSAIR, Schweizerische Lufverkehr AG, Zuerich-Flughafen, CHE)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
97
号:
1/3
ページ:
176-181
発行年:
1997年12月
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)