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文献
J-GLOBAL ID：200902139826857811
整理番号：94A0827529
化学浴堆積法による低抵抗率の立方晶相CdS膜
Low resistivity cubic phase CdS films by chemical bath deposition technique.
DE MELO O
(CINVESTAV-IPN, Mexico, MEX)
,
HERNANDEZ L
(CINVESTAV-IPN, Mexico, MEX)
,
ZELAYA-ANGEL O
(CINVESTAV-IPN, Mexico, MEX)
,
LOZADA-MORALES R
(CINVESTAV-IPN, Mexico, MEX)
,
BECERRIL M
(CINVESTAV-IPN, Mexico, MEX)
,
VASCO E
(Univ. Havana, Ciudad Habana, CUB)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 65 号： 10 ページ： 1278-1280 発行年： 1994年09月05日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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