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文献
J-GLOBAL ID：200902139828307886
整理番号：96A0902396
マスクを通した蒸着によるスパッタ膜のパターン形成
Pattern Formation of Sputtered Films by Deposition through Mask.
YAMAZAKI T
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
YOSHINO Y
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
YOSHIZAWA T
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
YAMABUCHI T
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
TERAYAMA K
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
SHIMAZAKI T
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
MIZUGUCHI T
(Toyama Murata Mfg. Co., Ltd., Toyama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 35 号： 9A ページ： 4755-4759 発行年： 1996年09月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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