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文献
J-GLOBAL ID：200902140251688190
整理番号：00A0867499
偏光解析的ポロシメトリーによる薄膜の気孔サイズ分布の決定
Determination of pore size distribution in thin films by ellipsometric porosimetry.
BAKLANOV M R
(IMEC, Leuven, BEL)
,
MOGILNIKOV K P
(Inst. Semiconductor Physics SB RAS, Novosibirsk, RUS)
,
POLOVINKIN V G
(Inst. Semiconductor Physics SB RAS, Novosibirsk, RUS)
,
DULTSEV F N
(Inst. Semiconductor Physics SB RAS, Novosibirsk, RUS)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 18 号： 3 ページ： 1385-1391 発行年： 2000年05月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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