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文献
J-GLOBAL ID：200902140275565251
整理番号：00A0747121
プラズマ支援化学蒸着により合成した窒化ほう素炭素膜の電界放出特性
Field emission characteristics of boron carbon nitride films synthesized by plasma-assisted chemical vapor deposition.
SUGINO T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
HIEDA H
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 9 号： 3/6 ページ： 1233-1237 発行年： 2000年04月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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