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文献
J-GLOBAL ID：200902140861705135
整理番号：96A0168953
ULSI用の窒化タンタル障壁層の有機金属化学蒸着
Metal-organic chemical vapor deposition of tantalum nitride barrier layers for ULSI applications.
TSAI M H
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
SUN S C
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
LEE C P
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHIU H T
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
TSAI C E
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHUANG S H
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
WU S C
(National Tsing Hwa Univ., Hsinchu, TWN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 270 号： 1/2 ページ： 531-536 発行年： 1995年12月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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