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文献
J-GLOBAL ID：200902140866253330
整理番号：99A0969627
直流電流サドルフィールドプラズマ増強化学蒸着により蒸着したSi(100)に対する水素添加非晶質炭素窒化皮膜
Hydrogenated amorphous carbon nitride films on Si(100) deposited by direct current saddle-field plasma-enhanced chemical vapor deposition.
JANG H K
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
KIM G
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
LEE Y S
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
WHANGBO S W
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
WHANG C N
(Yonsei Univ., Seoul, KOR)
,
YOO Y-Z
(Kwangju Inst. Sci. and Technol., Kwangju, KOR)
,
KIM H G
(Kwangju Inst. Sci. and Technol., Kwangju, KOR)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 17 号： 5 ページ： 2607-2611 発行年： 1999年09月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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