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文献
J-GLOBAL ID：200902141421792288
整理番号：01A0059388
ナノメートルパターン作製のためのフラーレン誘導体ナノ複合レジスト
Fullerene-Derivative Nanocomposite Resist for Nanometer Pattern Fabrication.
ISHII T
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
,
TAMAMURA T
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
SHIGEHARA K
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 39 号： 10B ページ： L1068-L1070 発行年： 2000年10月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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