文献
J-GLOBAL ID:200902141462755575
整理番号:99A0302279
誘導結合プラズマ中におけるダイヤモンド成長の低圧力限界
Lower pressure limit of diamond growth in inductively coupled plasma.
著者 (2件):
TEII K
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
YOSHIDA T
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
85
号:
3
ページ:
1864-1870
発行年:
1999年02月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)