文献
J-GLOBAL ID:200902141802444359
整理番号:01A0233960
熱線化学蒸着によって作製した低不純物濃度のポリシリコン膜
Poly-silicon films with low impurity concentration made by hot wire chemical vapour deposition.
著者 (3件):
SCHROPP R E I
(Utrecht Univ., Utrecht, NLD)
,
ALKEMADE P F A
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
RATH J K
(Utrecht Univ., Utrecht, NLD)
資料名:
Solar Energy Materials and Solar Cells
(Solar Energy Materials and Solar Cells)
巻:
65
号:
1/4
ページ:
541-547
発行年:
2001年01月
JST資料番号:
D0513C
ISSN:
0927-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)